Small angle X-ray diffraction study of a-Si:H/a-Ge:H multilayers: Reflectivity modeling and thermal stability

E. L. Zeballos-Velásquez, M. C.A. Fantini

Resultado de la investigación: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

5 Citas (Scopus)

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Small angle X-ray diffraction study of a-Si:H/a-Ge:H multilayers: Reflectivity modeling and thermal stability'. En conjunto forman una huella única.

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